Germanium nanoparticles formation in silicon dioxide layer by multi-energy implantation of Ge negative ions and their photo-luminescence

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http://hdl.handle.net/2433/78590

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タイトル:	Germanium nanoparticles formation in silicon dioxide layer by multi-energy implantation of Ge negative ions and their photo-luminescence
著者:	Arai, Nobutoshi Tsuji, Hiroshi Nakatsuka, Hiroyuki Kojima, Kenji Adachi, Kouichirou Kotaki, Hiroshi Ishibashi, Toyotsugu Gotoh, Yasuhito Ishikawa, Junzo
キーワード:	ion implantation heat treatment germanium photo-luminescence
発行日:	2008
出版者:	ELSEVIER SCIENCE SA
誌名:	MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY
巻:	147
号:	2-3
開始ページ:	230
終了ページ:	234
URI:	http://hdl.handle.net/2433/78590
DOI(出版社版):	10.1016/j.mseb.2007.08.023
リンク:	Web of Science
出現コレクション:	英文論文データベース

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