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| タイトル: | High speed deposition of SiO2 films with plasma jet based on capillary dielectric barrier discharge at atmospheric pressure |
| 著者: | Ito, Yosuke    https://orcid.org/0000-0003-3245-3840 (unconfirmed)Urabe, Keiichiro Takano, Nobuhiko Tachibana, Kunihide |
| 発行日: | 2008 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | APPLIED PHYSICS EXPRESS |
| 巻: | 1 |
| 号: | 6 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/78595 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/APEX.1.067009 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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