このアイテムのアクセス数: 0

このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
タイトル: Hydrogen implantation and annealing-induced exfoliation process in SiC wafers with various crystal orientations
著者: Senga, Kei
Kimoto, Tsunenobu  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Suda, Jun  KAKEN_id
キーワード: silicon carbide
hydrogen implantation
Smart-Cut (R) technology
発行日: 2008
出版者: INST PURE APPLIED PHYSICS
誌名: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
巻: 47
号: 7(Part 1)
開始ページ: 5352
終了ページ: 5354
URI: http://hdl.handle.net/2433/78607
DOI(出版社版): 10.1143/JJAP.47.5352
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

アイテムの詳細レコードを表示する

Export to RefWorks


出力フォーマット 


このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。