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タイトル: | Hydrogen implantation and annealing-induced exfoliation process in SiC wafers with various crystal orientations |
著者: | Senga, Kei Kimoto, Tsunenobu ![]() ![]() ![]() Suda, Jun ![]() |
キーワード: | silicon carbide hydrogen implantation Smart-Cut (R) technology |
発行日: | 2008 |
出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
巻: | 47 |
号: | 7(Part 1) |
開始ページ: | 5352 |
終了ページ: | 5354 |
URI: | http://hdl.handle.net/2433/78607 |
DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.47.5352 |
リンク: | Web of Science |
出現コレクション: | 英文論文データベース |

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