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| タイトル: | Relationship between resistivity and structure of photosensitive organic silsesquioxanes by impedance Spectroscopy and solid-state 29 Si nuclear magnetic resonance |
| 著者: | Kusaka, Yasunari Nakamura, Shigeru Azuma, Kenichi Sasaki, Taku Unate, Takao Nakatani, Yasuhiro Nakasuga, Akira Matsukawa, Kimihiro Watanabe, Naoki Naito, Hiroyoshi Kaji, Hironori    https://orcid.org/0000-0002-5111-3852 (unconfirmed) |
| キーワード: | photosensitive insulating materials silsesquioxane impedance spectroscopy solid-state NMR Si-29 NMR resistivity |
| 発行日: | 2008 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
| 巻: | 47 |
| 号: | 2(Part 2) |
| 開始ページ: | 1377 |
| 終了ページ: | 1381 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/78950 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.47.1377 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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