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| タイトル: | Effects of O-2 gas on reaction mechanisms in the chemical vapor deposition of (Ba,Sr)TiO3 thin film |
| 著者: | Yamamuka, M Momose, S Nakamura, T    https://orcid.org/0000-0001-9008-5586 (unconfirmed)Tachibana, K Takada, H |
| キーワード: | DRAM capacitor CVD BST film precursor sticking coefficient atomic incorporation rate trench coverage |
| 発行日: | 2002 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 41 |
| 号: | 4A |
| 開始ページ: | 2231 |
| 終了ページ: | 2240 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/8423 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.41.2231 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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