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タイトル: High channel mobility in inversion layer of SiC MOSFETs for power switching transistors
著者: Yano, H
Hirao, T
Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Matsunami, H
キーワード: MOSFET
(1120) face
4H-SiC
6H-SIC
15R-SiC
inversion channel mobility
threshold voltage
anisotropy
near-interfacial oxide traps
発行日: 2000
出版者: JAPAN J APPLIED PHYSICS
誌名: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
巻: 39
号: 4B
開始ページ: 2008
終了ページ: 2011
URI: http://hdl.handle.net/2433/8473
DOI(出版社版): 10.1143/JJAP.39.2008
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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