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タイトル: Fast epitaxial growth of thick 4H-SiC with specular surface by chimney-type vertical hot-wall chemical vapor deposition
著者: Fujiwara, H
Danno, K
Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Tojo, T
Matsunami, H
キーワード: vertical hot-wall CVD
micropipe closing
photoluminescence
fast epitaxy
発行日: 2004
出版者: TRANS TECH PUBLICATIONS LTD
誌名: SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2003, PTS 1 AND 2
巻: 457-460
開始ページ: 205
終了ページ: 208
URI: http://hdl.handle.net/2433/8744
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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