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タイトル: In-situ RHEED analysis during alpha-SiC homoepitaxy on (0001)Si- and (000(1)over-bar)C-faces by gas source molecular beam epitaxy
著者: Hatayama, T
Fuyuki, T
Nakamura, S
Kurobe, K
Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Matsunami, H
キーワード: gas source molecular beam epitaxy
RHEED
surface structure
発行日: 2000
出版者: TRANS TECH PUBLICATIONS LTD
誌名: SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS - 1999 PTS, 1 & 2
巻: 338-3
開始ページ: 361
終了ページ: 364
URI: http://hdl.handle.net/2433/8753
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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