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タイトル: Ruthenium–amine complexation for constructing self-assembled molecular films
著者: MORIGUCHI, Takahiro
MURASE, Kuniaki  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-7564-9416 (unconfirmed)
SUGIMURA, Hiroyuki  KAKEN_id
著者名の別形: 森口, 隆広
邑瀬, 邦明
杉村, 博之
キーワード: Self-assembled monolayer
Silane molecules
Ruthenium(III) ions
Ruthenium(III) complexes
発行日: 15-May-2008
出版者: Elsevier B.V.
引用: Takahiro Moriguchi, Kuniaki Murase, and Hiroyuki Sugimura. Ruthenium–amine complexation for constructing self-assembled molecular films. Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects. 321(1-3), 2008, 94-98.
誌名: Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects
巻: 321
号: 1-3
開始ページ: 94
終了ページ: 98
抄録: A redox active self-assembled monolayer consisting of ethylenediamine moieties coordinated to RuIII ions was prepared through a vapor phase silane coupling of N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane (AEAPS) molecules onto a SiO2/Si substrate, followed by complexation of RuIII ions in an aqueous RuCl3 solution. A similar SAM with 3-aminopropyltriethoxysilane did not provide surface RuIII-complex, indicating that chelation ability plays a key role in immobilizing RuIII ions at the surface. The RuIII chelated AEAPS-SAM gave a couple of RuIII/RuIV redox peaks at +1.0 and −0.1 V vs. Ag/AgCl (3 mol dm−3 NaCl).
著作権等: Copyright © 2008 Elsevier B.V.
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URI: http://hdl.handle.net/2433/97892
DOI(出版社版): 10.1016/j.colsurfa.2007.12.037
出現コレクション:学術雑誌掲載論文等

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