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j.colsurfa.2007.12.037.pdf | 1.22 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
タイトル: | Ruthenium–amine complexation for constructing self-assembled molecular films |
著者: | MORIGUCHI, Takahiro MURASE, Kuniaki ![]() ![]() ![]() SUGIMURA, Hiroyuki ![]() |
著者名の別形: | 森口, 隆広 邑瀬, 邦明 杉村, 博之 |
キーワード: | Self-assembled monolayer Silane molecules Ruthenium(III) ions Ruthenium(III) complexes |
発行日: | 15-May-2008 |
出版者: | Elsevier B.V. |
引用: | Takahiro Moriguchi, Kuniaki Murase, and Hiroyuki Sugimura. Ruthenium–amine complexation for constructing self-assembled molecular films. Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects. 321(1-3), 2008, 94-98. |
誌名: | Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects |
巻: | 321 |
号: | 1-3 |
開始ページ: | 94 |
終了ページ: | 98 |
抄録: | A redox active self-assembled monolayer consisting of ethylenediamine moieties coordinated to RuIII ions was prepared through a vapor phase silane coupling of N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane (AEAPS) molecules onto a SiO2/Si substrate, followed by complexation of RuIII ions in an aqueous RuCl3 solution. A similar SAM with 3-aminopropyltriethoxysilane did not provide surface RuIII-complex, indicating that chelation ability plays a key role in immobilizing RuIII ions at the surface. The RuIII chelated AEAPS-SAM gave a couple of RuIII/RuIV redox peaks at +1.0 and −0.1 V vs. Ag/AgCl (3 mol dm−3 NaCl). |
著作権等: | Copyright © 2008 Elsevier B.V. This is not the published version. Please cite only the published version. この論文は出版社版でありません。引用の際には出版社版をご確認ご利用ください。 |
URI: | http://hdl.handle.net/2433/97892 |
DOI(出版社版): | 10.1016/j.colsurfa.2007.12.037 |
出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 |

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