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| タイトル: | Effect of Series Capacitance and Accumulated Charge on a Substrate in a Deposition Process with an Atmospheric-Pressure Plasma Jet |
| 著者: | Ito, Yosuke    https://orcid.org/0000-0003-3245-3840 (unconfirmed)Fukui, Yutaka Urabe, Keiichiro Sakai, Osamu Tachibana, Kunihide |
| 発行日: | 2010 |
| 出版者: | JAPAN SOC APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
| 巻: | 49 |
| 号: | 6 |
| 論文番号: | 66201 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/147038 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.49.066201 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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