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| 書誌情報 | ファイル |
|---|---|
| Fluorine-doped indium oxide thin films prepared by chemical vapor deposition MARUYAMA, T; NAKAI, T (1992-03-15) JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 71(6): 2915-2917 |  |
| Aluminum oxide thin films prepared by chemical vapor deposition from aluminum 2-ethylhexanoate MARUYAMA, T; NAKAI, T (1991-05-13) APPLIED PHYSICS LETTERS, 58(19): 2079-2080 | |
| Cobalt thin films prepared by chemical vapor deposition from cobaltous acetate MARUYAMA, T; NAKAI, T (1991-09-16) APPLIED PHYSICS LETTERS, 59(12): 1433-1434 | |
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