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| タイトル: | Thermal stability of Gd2O3/Si(100) interfacial transition layer |
| 著者: | Nohira, H Yoshida, T Okamoto, H Shinagawa, S Sakai, W Nakajima, K    https://orcid.org/0000-0002-5390-1262 (unconfirmed)Suzuki, M https://orcid.org/0000-0002-6473-9141 (unconfirmed)Kimura, K Aun, NJ Kobayashi, Y Ohmi, S Iwai, H Ikenaga, E Takata, Y Kobayashi, K Hattori, T |
| 発行日: | 2006 |
| 出版者: | EDP SCIENCES S A |
| 誌名: | JOURNAL DE PHYSIQUE IV |
| 巻: | 132 |
| 開始ページ: | 273 |
| 終了ページ: | 277 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/35082 |
| DOI(出版社版): | 10.1051/jp4:2006132052 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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