ブラウズ : 著者 Ohno, T.
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| 書誌情報 | ファイル |
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| Suppression of oxygen vacancy formation in Hf-based high-k dielectrics by lanthanum incorporation Umezawa, N.; Shiraishi, K.; Sugino, S.; Tachibana, A.; Ohmori, K.; Kakushima, K.; Iwai, H.; Chikyow, T.; Ohno, T.; Nara, Y.; Yamada, K. (2007) APPLIED PHYSICS LETTERS, 91(13) |