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書誌情報ファイル
Electrochromic properties of niobium oxide thin films prepared by radio-frequency magnetron sputtering method
  MARUYAMA, T; ARAI, S (1993-08-16)
  APPLIED PHYSICS LETTERS, 63(7): 869-870
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Silicon dioxide thin films prepared by chemical vapor deposition from tetrakis (dimethylamino)silane and ozone
  MARUYAMA, T; SHIRAI, T (1993-08-02)
  APPLIED PHYSICS LETTERS, 63(5): 611-613
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