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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Seki, T. | en |
| dc.contributor.author | Aoki, T. | en |
| dc.contributor.author | Matsuo, J. | en |
| dc.date.accessioned | 2010-04-19T05:51:19Z | - |
| dc.date.available | 2010-04-19T05:51:19Z | - |
| dc.date.issued | 2009 | - |
| dc.identifier.issn | 0168-583X | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/108961 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | ELSEVIER SCIENCE BV | en |
| dc.subject | Cluster | en |
| dc.subject | Ion beam | en |
| dc.subject | Sputtering yield | en |
| dc.subject | Reactive etching | en |
| dc.subject | Cl-2 | en |
| dc.title | High-speed processing with Cl-2 cluster ion beam | en |
| dc.type | conference paper | - |
| dc.type.niitype | Conference Paper | - |
| dc.identifier.jtitle | NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS | en |
| dc.identifier.volume | 267 | - |
| dc.identifier.issue | 8-9 | - |
| dc.identifier.spage | 1444 | - |
| dc.identifier.epage | 1446 | - |
| dc.relation.doi | 10.1016/j.nimb.2009.01.069 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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