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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Oshima, Takayoshi | en |
| dc.contributor.author | Okuno, Takeya | en |
| dc.contributor.author | Arai, Naoki | en |
| dc.contributor.author | Kobayashi, Yasushi | en |
| dc.contributor.author | Fujita, Shizuo | en |
| dc.date.accessioned | 2010-04-19T05:51:55Z | - |
| dc.date.available | 2010-04-19T05:51:55Z | - |
| dc.date.issued | 2009 | - |
| dc.identifier.issn | 0021-4922 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/109005 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | INST PURE APPLIED PHYSICS | en |
| dc.title | Wet Etching of beta-Ga2O3 Substrates | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | en |
| dc.identifier.volume | 48 | - |
| dc.identifier.issue | 4 | - |
| dc.relation.doi | 10.1143/JJAP.48.040208 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dc.identifier.artnum | 040208 | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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