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dc.contributor.authorKohama, Kazuyukien
dc.contributor.authorIto, Kazuhiroen
dc.contributor.authorMori, Kenichien
dc.contributor.authorMaekawa, Kazuyoshien
dc.contributor.authorShirai, Yasuharuen
dc.contributor.authorMurakami, Masanorien
dc.date.accessioned2010-04-19T05:58:56Z-
dc.date.available2010-04-19T05:58:56Z-
dc.date.issued2009-
dc.identifier.issn0361-5235-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/109534-
dc.language.isoeng-
dc.publisherSPRINGERen
dc.subjectCu(Ti) alloy filmen
dc.subjectlow-k filmsen
dc.subjectself-formationen
dc.subjectRutherford backscattering spectrometryen
dc.subjectdiffusion barrieren
dc.titleRutherford Backscattering Spectrometry Analysis of Self-Formed Ti-Rich Interface Layer Growth in Cu(Ti)/Low-k Samplesen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleJOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALSen
dc.identifier.volume38-
dc.identifier.issue9-
dc.identifier.spage1913-
dc.identifier.epage1920-
dc.relation.doi10.1007/s11664-009-0843-y-
dc.textversionnone-
dcterms.accessRightsmetadata only access-
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