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| タイトル: | Performance of UV and UV/H2O2 processes for the removal of pharmaceuticals detected in secondary effluent of a sewage treatment plant in Japan |
| 著者: | Kim, Ilho Yamashita, Naoyuki  Tanaka, Hiroaki |
| キーワード: | Pharmaceuticals UV UV/H2O2 AOPs LC/MS/MS |
| 発行日: | 2009 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE BV |
| 誌名: | JOURNAL OF HAZARDOUS MATERIALS |
| 巻: | 166 |
| 号: | 2-3 |
| 開始ページ: | 1134 |
| 終了ページ: | 1140 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/109639 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.jhazmat.2008.12.020 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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