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ykogk03093.pdfAbstract_要旨179.23 kBAdobe PDF見る/開く
タイトル: ミストデポジション法による薄膜形成技術に関する研究
著者: 西中, 浩之  KAKEN_name
著者名の別形: Nishinaka, Hiroyuki
発行日: 23-Mar-2009
出版者: 京都大学 (Kyoto University)
学位授与大学: 京都大学
学位の種類: 新制・課程博士
取得分野: 博士(工学)
報告番号: 甲第14625号
学位記番号: 工博第3093号
metadata.dc.date.granted: 2009-03-23
請求記号: 新制||工||1460(附属図書館)
研究科・専攻: 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
論文調査委員: (主査)教授 藤田 静雄, 教授 川上 養一, 准教授 白藤 立
学位授与の要件: 学位規則第4条第1項該当
URI: http://hdl.handle.net/2433/124538
出現コレクション:090 博士(工学)

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