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dc.contributor.authorAlfieri, Giovannien
dc.contributor.authorKimoto, Ten
dc.date.accessioned2011-03-14T07:39:00Z-
dc.date.available2011-03-14T07:39:00Z-
dc.date.issued2011-02-16-
dc.identifier.issn0953-8984-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/138534-
dc.description.abstractWe report on the electrical characterization, by means of deep level transient spectroscopy, of electron-irradiated Al-doped 6H-SiC epilayers. Samples were irradiated with either 116 keV, in order to displace only carbon atoms, or 400 keV. Seven deep traps, in the 0.1–1.6 eV range above the valence band, were found. The thermal stability of the detected levels was analyzed by performing an isochronal annealing series in the 100–1800 °C temperature range and the atomic structure of most of the detected traps was found to be related to C-displacement.en
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoeng-
dc.publisherIOPen
dc.rights© IOP Publishing 2011en
dc.rightsこの論文は出版社版でありません。引用の際には出版社版をご確認ご利用ください。ja
dc.rightsThis is not the published version. Please cite only the published version.en
dc.titleThe effects of displacement threshold irradiation energy on deep levels in p-type 6H-SiCen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.ncidAA10672168-
dc.identifier.jtitleJournal of Physics: Condensed Matteren
dc.identifier.volume23-
dc.identifier.issue6-
dc.relation.doi10.1088/0953-8984/23/6/065803-
dc.textversionauthor-
dc.identifier.artnum065803-
dc.identifier.pmid21406935-
dcterms.accessRightsopen access-
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