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dc.contributor.authorHirai, Yoshikazuen
dc.contributor.authorSugano, Kojien
dc.contributor.authorTsuchiya, Toshiyukien
dc.contributor.authorTabata, Osamuen
dc.date.accessioned2011-09-13T00:25:49Z-
dc.date.available2011-09-13T00:25:49Z-
dc.date.issued2010-
dc.identifier.issn1057-7157-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/146623-
dc.language.isoeng-
dc.publisherIEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INCen
dc.subjectChemically amplified resisten
dc.subjectcross-linking reactionen
dc.subjectembedded microchannelsen
dc.subjectmicrofluidicsen
dc.subjectmicroelectromechanical systems (MEMS)en
dc.subjectphotoresisten
dc.subjectpolymer microstructuresen
dc.subjectthree-dimensional microfabricationen
dc.subjectUV lithographyen
dc.titleEmbedded Microstructure Fabrication Using Developer-Permeability of Semi-Cross-Linked Negative Resisten
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleJOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMSen
dc.identifier.volume19-
dc.identifier.issue5-
dc.identifier.spage1058-
dc.identifier.epage1069-
dc.relation.doi10.1109/JMEMS.2010.2067202-
dc.textversionnone-
dcterms.accessRightsmetadata only access-
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