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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Koike, Kunihiko | en |
| dc.contributor.author | Yoshino, Yu | en |
| dc.contributor.author | Senoo, Takehiko | en |
| dc.contributor.author | Seki, Toshio | en |
| dc.contributor.author | Ninomiya, Satoshi | en |
| dc.contributor.author | Aoki, Takaaki | en |
| dc.contributor.author | Matsuo, Jiro | en |
| dc.date.accessioned | 2011-09-13T00:27:17Z | - |
| dc.date.available | 2011-09-13T00:27:17Z | - |
| dc.date.issued | 2010 | - |
| dc.identifier.issn | 1882-0778 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/146736 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | JAPAN SOC APPLIED PHYSICS | en |
| dc.title | Anisotropic Etching Using Reactive Cluster Beams | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | APPLIED PHYSICS EXPRESS | en |
| dc.identifier.volume | 3 | - |
| dc.identifier.issue | 12 | - |
| dc.relation.doi | 10.1143/APEX.3.126501 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dc.identifier.artnum | 126501 | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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