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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Ito, Yosuke | en |
| dc.contributor.author | Fukui, Yutaka | en |
| dc.contributor.author | Urabe, Keiichiro | en |
| dc.contributor.author | Sakai, Osamu | en |
| dc.contributor.author | Tachibana, Kunihide | en |
| dc.date.accessioned | 2011-09-13T00:31:02Z | - |
| dc.date.available | 2011-09-13T00:31:02Z | - |
| dc.date.issued | 2010 | - |
| dc.identifier.issn | 0021-4922 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/147038 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | JAPAN SOC APPLIED PHYSICS | en |
| dc.title | Effect of Series Capacitance and Accumulated Charge on a Substrate in a Deposition Process with an Atmospheric-Pressure Plasma Jet | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | en |
| dc.identifier.volume | 49 | - |
| dc.identifier.issue | 6 | - |
| dc.relation.doi | 10.1143/JJAP.49.066201 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dc.identifier.artnum | 66201 | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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