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DCフィールド言語
dc.contributor.advisor橘, 邦英-
dc.contributor.advisor鈴木, 実-
dc.contributor.advisor斧, 髙一-
dc.contributor.authorYamamuka, Mikioen
dc.contributor.alternative山向, 幹雄ja
dc.contributor.transcriptionヤマムカ, ミキオja
dc.date.accessioned2011-11-17T07:48:38Z-
dc.date.available2011-11-17T07:48:38Z-
dc.date.issued2002-03-25-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/149806-
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoeng-
dc.publisher京都大学 (Kyoto University)ja
dc.publisher.alternative京都大学ja
dc.subject.ndc500-
dc.titleA study on reaction mechanisms in chemical vapor deposition of (Ba,Sr)TiO3 films for Gbit-scale DRAM capacitorsen
dc.title.alternativeギガビットスケールDRAMキャパシタ用(Ba, Sr)TiO3薄膜の化学気相成長における成膜反応機構に関する研究ja
dc.title.transcriptionギガビット スケール DRAM キャパシタヨウ Ba Sr TiO3 ハクマク ノ カガク キソウ セイチョウ ニ オケル セイマク ハンノウ キコウ ニ カンスル ケンキュウja-Kana
dc.typedoctoral thesis-
dc.type.niitypeThesis or Dissertation-
dc.textversionauthor-
dc.identifier.ndlid000003538031-
dc.description.degreegrantor京都大学ja
dc.description.degreeuniversitycode0048-
dc.description.degreelevel新制・課程博士-
dc.description.degreediscipline博士(工学)ja
dc.description.degreereportnumber甲第9570号-
dc.description.degreenumber工博第2156号-
dc.description.degreekucallnumber新制||工||1236(附属図書館)-
dc.description.degreendlcallnumberUT51-2002-G328-
dc.date.granted2002-03-25-
dc.description.degreeaffiliation京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻-
dc.description.degreeexamcommittee(主査)教授 橘 邦英, 教授 鈴木 実, 教授 斧 髙一-
dc.description.degreeprovision学位規則第4条第1項該当-
dc.identifier.selfDOI10.14989/doctor.k9570-
dcterms.accessRightsopen access-
dc.description.degreediscipline-enDoctor of Engineeringen
dc.identifier.degreegrantorID14301-
dc.description.degreegrantor-enKyoto Universityen
dc.description.degreeObjectTypeDFAM-
jpcoar.contributor.TypeSupervisor-
jpcoar.contributor.TypeSupervisor-
jpcoar.contributor.TypeSupervisor-
jpcoar.contributor.Name橘, 邦英ja
jpcoar.contributor.Name鈴木, 実ja
jpcoar.contributor.Name斧, 髙一ja
出現コレクション:090 博士(工学)

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