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DCフィールド言語
dc.contributor.advisor斧, 髙一-
dc.contributor.advisor稲室, 隆二-
dc.contributor.advisor青木, 一生-
dc.contributor.authorFukumoto, Hiroshien
dc.contributor.alternative福本, 浩志ja
dc.contributor.transcriptionフクモト, ヒロシja
dc.date.accessioned2012-07-09T04:32:12Z-
dc.date.available2012-07-09T04:32:12Z-
dc.date.issued2012-05-23-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/158076-
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoeng-
dc.publisher京都大学 (Kyoto University)ja
dc.publisher.alternative京都大学ja
dc.subjectFluorocarbon plasmasen
dc.subjectInductively coupled plasmaen
dc.subjectPlasma etching profileen
dc.subjectChargingen
dc.subject.ndc500-
dc.titleModel Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmasen
dc.title.alternativeフルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ-表面相互作用の数値解析ja
dc.typedoctoral thesis-
dc.type.niitypeThesis or Dissertation-
dc.textversionauthor-
dc.description.degreegrantor京都大学ja
dc.description.degreeuniversitycode0048-
dc.description.degreelevel新制・課程博士-
dc.description.degreediscipline博士(工学)ja
dc.description.degreereportnumber甲第17064号-
dc.description.degreenumber工博第3613号-
dc.description.degreekucallnumber新制||工||1548(附属図書館)-
dc.description.degreeserialnumber29784-
dc.date.granted2012-05-23-
dc.description.degreeaffiliation京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻-
dc.description.degreeexamcommittee(主査)教授 斧 髙一, 教授 稲室 隆二, 教授 青木 一生-
dc.description.degreeprovision学位規則第4条第1項該当-
dc.identifier.selfDOI10.14989/doctor.k17064-
dcterms.accessRightsopen access-
dc.description.degreediscipline-enDoctor of Philosophy (Engineering)en
dc.identifier.degreegrantorID14301-
dc.description.degreegrantor-enKyoto Universityen
dc.description.degreeObjectTypeDFAM-
jpcoar.contributor.TypeSupervisor-
jpcoar.contributor.TypeSupervisor-
jpcoar.contributor.TypeSupervisor-
jpcoar.contributor.Name斧, 髙一ja
jpcoar.contributor.Name稲室, 隆二ja
jpcoar.contributor.Name青木, 一生ja
出現コレクション:090 博士(工学)

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