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dc.contributor.authorIshii, Ryotaen
dc.contributor.authorFunato, Mitsuruen
dc.contributor.authorKawakami, Yoichien
dc.contributor.alternative石井, 良太ja
dc.date.accessioned2013-05-21T00:19:23Z-
dc.date.available2013-05-21T00:19:23Z-
dc.date.issued2013-04-
dc.identifier.issn1098-0121-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/174057-
dc.description.abstractOptical spectroscopy is performed for c-plane homoepitaxial aluminum nitride (AlN) films. The temperature dependence of the polarization-resolved photoluminescence spectra reveals the exciton fine structure. The experimental results demonstrate that the electron-hole exchange interaction energy (j) in AlN is j=6.8 meV, which is the largest value for typical III-V and II-VI compound semiconductors. We propose the effective interatomic distance as the criterion of the electron-hole exchange interaction energy, revealing a universal rule. This study should encourage potential applications of excitonic optoelectronic devices in nitride semiconductors similar to those using II-VI compound semiconductors.en
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoeng-
dc.publisherAmerican Physical Societyen
dc.rights©2013 American Physical Societyen
dc.titleHuge electron-hole exchange interaction in aluminum nitrideen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.ncidAA11187113-
dc.identifier.jtitlePhysical Review Ben
dc.identifier.volume87-
dc.identifier.issue16-
dc.relation.doi10.1103/PhysRevB.87.161204-
dc.textversionpublisher-
dc.identifier.artnum161204-
dcterms.accessRightsopen access-
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