Downloads: 538

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
ykogk04173.pdfAbstract_要旨166.96 kBAdobe PDFView/Open
gkogk04173.pdfDigest_要約141.25 kBAdobe PDFView/Open
dkogk04173.pdfDissertation_全文11.12 MBAdobe PDFView/Open
Title: 分子線エピタキシー法を用いたフォトニック結晶レーザ作製法の開発と空孔立体形状の検討
Authors: 西本, 昌哉  KAKEN_name
Author's alias: Nishimoto, Masaya
Keywords: 半導体レーザ
フォトニック結晶
分子線エピタキシー法
Issue Date: 23-Mar-2016
Publisher: 京都大学 (Kyoto University)
Conferring University: 京都大学
Degree Level: 新制・課程博士
Degree Discipline: 博士(工学)
Degree Report no.: 甲第19718号
Degree no.: 工博第4173号
Conferral date: 2016-03-23
Degree Call no.: 新制||工||1644(附属図書館)
Degree Serial no.: 32754
Degree Affiliation: 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
Examination Committee members: (主査)教授 野田 進, 教授 藤田 静雄, 教授 川上 養一
Provisions of the Ruling of Degree: 学位規則第4条第1項該当
Rights: 学位規則第9条第2項により要約公開
許諾条件により本文は2018-09-01に公開
DOI: 10.14989/doctor.k19718
URI: http://hdl.handle.net/2433/215544
Appears in Collections:090 Doctoral Dissertation (Philosophy (Engineering))

Show full item record

Export to RefWorks


Export Format: 


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.