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ApplPhysLett_87_051912.pdf123.98 kBAdobe PDF見る/開く
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dc.contributor.authorFujiwara, Hen
dc.contributor.authorKimoto, Ten
dc.contributor.authorTojo, Ten
dc.contributor.authorMatsunami, Hen
dc.date.accessioned2006-12-25T02:30:08Z-
dc.date.available2006-12-25T02:30:08Z-
dc.date.issued2005-08-01-
dc.identifier.citationH. Fujiwara et al., Appl. Phys. Lett. 87, 051912 (2005)-
dc.identifier.issn0003-6951-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/24192-
dc.format.extent126959 bytes-
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoeng-
dc.publisherAmerican Institute of Physicsen
dc.rightsCopyright 2005 American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.en
dc.titleCharacterization of in-grown stacking faults in 4H-SiC (0001) epitaxial layers and its impacts on high-voltage Schottky barrier diodesen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.ncidAA00543431-
dc.identifier.jtitleApplied Physics Lettersen
dc.identifier.volume87-
dc.identifier.issue5-
dc.relation.doi10.1063/1.1997277-
dc.textversionpublisher-
dc.identifier.artnum051912-
dc.relation.urlhttp://link.aip.org/link/?apl/87/051912-
dcterms.accessRightsopen access-
出現コレクション:学術雑誌掲載論文等

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