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タイトル: MONITORING OF SULFUR - CONTAING ADDITIVES IN COPPER ELECTRODEPOSITION BY ROTATING RING - DISK ELECTRODE AND COPPER ELECTRODEPOSITION FOR HYBRID BONDING
その他のタイトル: イオウを含有する添加剤の回転リングーディスク電極によるモニタリングとハイブリッド接合のための電気銅めっき
著者: Tran, Van Nhat Anh
著者名の別形: トラン, バン ナト アン
キーワード: Cuprous intermediate
SPS monitoring
2M5S monitoring
High TEC copper
Copper electrodeposition
発行日: 24-May-2021
出版者: Kyoto University
学位授与大学: 京都大学
学位の種類: 新制・課程博士
取得分野: 博士(エネルギー科学)
報告番号: 甲第23396号
学位記番号: エネ博第423号
学位授与年月日: 2021-05-24
請求記号: 新制||エネ||80(附属図書館)
研究科・専攻: 京都大学大学院エネルギー科学研究科エネルギー応用科学専攻
論文調査委員: (主査)教授 平藤 哲司, 教授 土井 俊哉, 准教授 三宅 正男
学位授与の要件: 学位規則第4条第1項該当
著作権等: 学位規則第9条第2項により要約公開
1. A. V. N. Tran, L. D. Tran, H. V. Hoang, and K. Kondo, “A Rotating Ring Disk Electrode Study of Detect the Acceleration Effect of SPS and MPS in the Presence of Chloride ”, J. Surf. Finish. Soc. Japan, vol. 68, no. 8, pp. 472-473, 2017. DOI: 10.4139/sfj.68.472 2. A. V. N. Tran, H. V. Hoang, K. Kondo, and T. Hirato, “A Rotating Ring Disk Study of Accelerators with Cl- and Br- for Copper Damascence Electrodeposition”, J. Surf. Finish. Soc. Japan, vol. 69, no.8, pp. 352-355, 2018.DOI: 10.4139/sfj.69.352 3. A. V. N. Tran, H. V. Hoang, K. Kondo, and T. Hirato, “ Monitoring of SPS Concentration by the Ring Current Using a Rotating Ring-Disk Electrode with Dissolving Disk Copper to Refresh a Void Free Solution”, J. Electrochem. Soc., vol. 166, no. 14, pp. D742, 2019. DOI: 10.1149/2.0841914jes 4. A. V. N. Tran, K. Kondo, and T. Hirato, “High TEC Copper to Connect Copper Bond Pads for Low Temperature Wafer Bonding”, J. Solid State Sci. Technol., vol. 9, pp. 124003, 2020. DOI: 10.1149/2162-8777/abd14a 5. A. V. N. Tran, K. Kondo, and T. Hirato, “A Rotating Ring-Disk Study to Monitor the Concentration of 2M5S in Copper Low TEC Electrolyte”, J. Electrochem. Soc., 2021. (Accepted on 23rd April) DOI: 10.1149/1945-7111/abfb3b
DOI: 10.14989/doctor.k23396
URI: http://hdl.handle.net/2433/264677
出現コレクション:120 博士(エネルギー科学)

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