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タイトル: CHEMICAL STRUCTURES AND ELECTRONIC PROPERTIES OF SILICON NITRIDE FILMS
その他のタイトル: シリコン窒化膜の化学構造と電子物性に関する研究
著者: Fujita, Shizuo
著者名の別形: 藤田, 靜雄
発行日: 23-May-1990
出版者: Kyoto University
記述: 本文データは国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化事業により作成された画像ファイルを基にpdf変換したものである
学位授与大学: 京都大学
学位の種類: 新制・論文博士
取得分野: 工学博士
報告番号: 乙第7243号
学位記番号: 論工博第2369号
学位授与年月日: 1990-05-23
請求記号: 新制||工||811(附属図書館)
論文調査委員: (主査)教授 佐々木 昭夫, 教授 松波 弘之, 教授 藤田 茂夫
学位授与の要件: 学位規則第5条第2項該当
DOI: 10.11501/11393707
URI: http://hdl.handle.net/2433/274193
出現コレクション:090 博士(工学)

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