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| タイトル: | Etching of high-k dielectric HfO2 films in BCl3-containing plasmas enhanced with O-2 addition |
| 著者: | Kitagawa, T Nakamura, K Osari, K Takahashi, K Ono, K  Oosawa, M Hasaka, S Inoue, M |
| キーワード: | plasma etching plasma cleaning chlorine-containing plasma BCl3 plasma O-2 addition high-k dielectrics HfO2 |
| 発行日: | 2006 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS |
| 巻: | 45 |
| 号: | 8-11 |
| 開始ページ: | L297 |
| 終了ページ: | L300 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/35077 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.45.L297 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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