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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Fujita, M | en |
| dc.contributor.author | Sugitatsu, A | en |
| dc.contributor.author | Uesugi, T | en |
| dc.contributor.author | Noda, S | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:43:10Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:43:10Z | - |
| dc.date.issued | 2004 | - |
| dc.identifier.issn | 0021-4922 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/3528 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | INST PURE APPLIED PHYSICS | en |
| dc.subject | dry etching | en |
| dc.subject | GaInAsP | en |
| dc.subject | hydrogen iodide (HI) | en |
| dc.subject | indium phosphide (InP) | en |
| dc.subject | inductively coupled plasma (ICP) | en |
| dc.subject | microfabrication | en |
| dc.subject | photonic crystal | en |
| dc.title | Fabrication of indium phosphide compound photonic crystal by hydrogen iodide/xenon inductively coupled plasma etching | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | en |
| dc.identifier.volume | 43 | - |
| dc.identifier.issue | 11A | - |
| dc.identifier.spage | L1400 | - |
| dc.identifier.epage | L1402 | - |
| dc.relation.doi | 10.1143/JJAP.43.L1400 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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