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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Fujii, R | en |
| dc.contributor.author | Gotoh, Y | en |
| dc.contributor.author | Liao, MY | en |
| dc.contributor.author | Tsuji, H | en |
| dc.contributor.author | Ishikawa, J | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T05:44:37Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T05:44:37Z | - |
| dc.date.issued | 2006 | - |
| dc.identifier.issn | 0042-207X | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/35355 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD | en |
| dc.subject | compound-target-sputtering | en |
| dc.subject | transition metal nitride | en |
| dc.subject | transition metal carbide | en |
| dc.subject | work function | en |
| dc.subject | electronegativity | en |
| dc.subject | cold cathode | en |
| dc.title | Work function measurement of transition metal nitride and carbide thin films | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | VACUUM | en |
| dc.identifier.volume | 80 | - |
| dc.identifier.issue | 7 | - |
| dc.identifier.spage | 832 | - |
| dc.identifier.epage | 835 | - |
| dc.relation.doi | 10.1016/j.vacuum.2005.11.030 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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