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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Sugimura, H | en |
| dc.contributor.author | Sano, H | en |
| dc.contributor.author | Lee, KH | en |
| dc.contributor.author | Murase, K | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T05:48:41Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T05:48:41Z | - |
| dc.date.issued | 2006 | - |
| dc.identifier.issn | 0021-4922 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/35651 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | INST PURE APPLIED PHYSICS | en |
| dc.subject | photolithography | en |
| dc.subject | micropatterning | en |
| dc.subject | vacuum ultraviolet light | en |
| dc.subject | excimer lamp | en |
| dc.subject | self-assembled monolayer | en |
| dc.subject | silicon | en |
| dc.title | Organic monolayers covalently bonded to Si as ultra thin photoresist films in vacuum UV lithography | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS | en |
| dc.identifier.volume | 45 | - |
| dc.identifier.issue | 6B | - |
| dc.identifier.spage | 5456 | - |
| dc.identifier.epage | 5460 | - |
| dc.relation.doi | 10.1143/JJAP.45.5456 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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