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dc.contributor.authorOkada, Ten
dc.contributor.authorOchi, Ken
dc.contributor.authorKawahara, Hen
dc.contributor.authorTomita, Ten
dc.contributor.authorMatsuo, Sen
dc.contributor.authorYamaguchi, Men
dc.contributor.authorHigashimine, Ken
dc.contributor.authorKimoto, Ten
dc.date.accessioned2007-03-28T05:49:51Z-
dc.date.available2007-03-28T05:49:51Z-
dc.date.issued2006-
dc.identifier.issn0021-4922-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/35737-
dc.language.isoeng-
dc.publisherINST PURE APPLIED PHYSICSen
dc.subjectsilicon carbide (SiC)en
dc.subjecthomoepitaxial filmen
dc.subjectsurface morphological defecten
dc.subjecttransmission electron microscopy (TEM)en
dc.subjectmicro-Raman spectroscopyen
dc.subjectzirconia (ZrO2) inclusionen
dc.subjectsheared Frank dislocationen
dc.titleSource of surface morphological defects formed on 4H-SiC homoepitaxial filmsen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleJAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERSen
dc.identifier.volume45-
dc.identifier.issue10A-
dc.identifier.spage7625-
dc.identifier.epage7631-
dc.relation.doi10.1143/JJAP.45.7625-
dc.textversionnone-
dcterms.accessRightsmetadata only access-
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