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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Hirai, Y | en |
| dc.contributor.author | Inamoto, Y | en |
| dc.contributor.author | Sugano, K | en |
| dc.contributor.author | Tsuchiya, T | en |
| dc.contributor.author | Tabata, O | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T05:53:55Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T05:53:55Z | - |
| dc.date.issued | 2007 | - |
| dc.identifier.issn | 0960-1317 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/36029 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | IOP PUBLISHING LTD | en |
| dc.title | Moving mask UV lithography for three-dimensional structuring | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING | en |
| dc.identifier.volume | 17 | - |
| dc.identifier.issue | 2 | - |
| dc.identifier.spage | 199 | - |
| dc.identifier.epage | 206 | - |
| dc.relation.doi | 10.1088/0960-1317/17/2/003 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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