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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Hashimoto, T | en |
| dc.contributor.author | Inui, H | en |
| dc.contributor.author | Tanaka, K | en |
| dc.contributor.author | Yamaguchi, M | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:13:19Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:13:19Z | - |
| dc.date.issued | 2003 | - |
| dc.identifier.issn | 0966-9795 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/3794 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | ELSEVIER SCI LTD | en |
| dc.subject | titanium silicides | en |
| dc.subject | electrical resistance and other electrical properties | en |
| dc.subject | phase transformation | en |
| dc.subject | microstructure | en |
| dc.title | Reduction of the C49 -> C54 phase transformation temperature in co-sputtered TiSi2 thin films by ternary alloying | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | INTERMETALLICS | en |
| dc.identifier.volume | 11 | - |
| dc.identifier.issue | 5 | - |
| dc.identifier.spage | 417 | - |
| dc.identifier.epage | 424 | - |
| dc.relation.doi | 10.1016/S0966-9795(03)00022-0 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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