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dc.contributor.authorLiu, ZLen
dc.contributor.authorSugata, Sen
dc.contributor.authorYuge, Ken
dc.contributor.authorNagasono, Men
dc.contributor.authorTanaka, Ken
dc.contributor.authorKawai, Jen
dc.date.accessioned2007-06-14T06:24:14Z-
dc.date.available2007-06-14T06:24:14Z-
dc.date.issued2004-01-
dc.identifier.issn1098-0121-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/39862-
dc.format.extent106246 bytes-
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoeng-
dc.publisherAMERICAN PHYSICAL SOCen
dc.rightsCopyright 2004 American Physical Societyen
dc.titleCorrelation between chemical shift of SiK alpha lines and the effective charge on the Si atom and its application in the Fe-Si binary systemen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitlePHYSICAL REVIEW Ben
dc.identifier.volume69-
dc.identifier.issue3-
dc.relation.doi10.1103/PhysRevB.69.035106-
dc.textversionpublisher-
dc.identifier.artnum035106-
dc.relation.urlhttp://link.aps.org/abstract/PRB/v69/p035106-
dcterms.accessRightsopen access-
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