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タイトル: Chemical reaction at high temperature and high pressure VII : solid state reaction of silicon with graphite to form silicon carbide and its stability
著者: Nakamura, Tokio
Shimizu, Kiyoshi
Osugi, Jiro
著者名の別形: ナカムラ, トキオ
シミズ, キヨシ
オオスギ, ジロウ
発行日: 10-Apr-1970
出版者: The Physico-Chemical Society of Japan
誌名: The Review of Physical Chemistry of Japan
巻: 39
号: 2
開始ページ: 104
終了ページ: 109
抄録: The yield of SiC in the solid state reaction between Si and graphite powder has been studied at temperatures of 800~1, 100℃ under pressures of 10~50kb. The temperature of commencement of reaction is represented by 0.7×Tw°K (melting point of Si under pressure). The yield of SiC increases with increasing temperature and pressure, so that the rate determining step would be in the reaction process. The α--β transformation of SiC has been observed under pressure and it has been concluded thermodynamically that the β form SiC would be the stable species in the experimental conditions.
URI: http://hdl.handle.net/2433/46937
出現コレクション:Vol.39 No.2

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