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完全メタデータレコード
DCフィールド | 値 | 言語 |
---|---|---|
dc.contributor.author | Kimoto, T | en |
dc.contributor.author | Chen, ZY | en |
dc.contributor.author | Tamura, S | en |
dc.contributor.author | Nakamura, S | en |
dc.contributor.author | Onojima, N | en |
dc.contributor.author | Matsunami, H | en |
dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:59:47Z | - |
dc.date.available | 2007-03-28T03:59:47Z | - |
dc.date.issued | 2001 | - |
dc.identifier.issn | 0021-4922 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/4856 | - |
dc.language.iso | eng | - |
dc.publisher | INST PURE APPLIED PHYSICS | en |
dc.subject | silicon carbide | en |
dc.subject | surface morphology | en |
dc.subject | morphological defect | en |
dc.subject | step bunching | en |
dc.subject | AFM | en |
dc.subject | chemical vapor deposition | en |
dc.title | Surface morphological structures of 4H-, 6H- and 15R-SiC (0001) epitaxial layers grown by chemical vapor deposition | en |
dc.type | journal article | - |
dc.type.niitype | Journal Article | - |
dc.identifier.jtitle | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | en |
dc.identifier.volume | 40 | - |
dc.identifier.issue | 5A | - |
dc.identifier.spage | 3315 | - |
dc.identifier.epage | 3319 | - |
dc.relation.doi | 10.1143/JJAP.40.3315 | - |
dc.textversion | none | - |
dcterms.accessRights | metadata only access | - |
出現コレクション: | 英文論文データベース |
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