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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Kimura, K | en |
| dc.contributor.author | Nakajima, K | en |
| dc.contributor.author | Okazaki, Y | en |
| dc.contributor.author | Kobayashi, H | en |
| dc.contributor.author | Miwa, S | en |
| dc.contributor.author | Satori, K | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:10:47Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:10:47Z | - |
| dc.date.issued | 2000 | - |
| dc.identifier.issn | 0021-4922 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/4885 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | JAPAN J APPLIED PHYSICS | en |
| dc.subject | silicon oxynitride | en |
| dc.subject | ultrathin film | en |
| dc.subject | nitrogen depth profile | en |
| dc.subject | RBS | en |
| dc.subject | high-resolution | en |
| dc.subject | SIMS | en |
| dc.subject | AES | en |
| dc.title | Nitrogen depth profiling in ultrathin silicon oxynitride films with high-resolution rutherford backscattering spectroscopy | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | en |
| dc.identifier.volume | 39 | - |
| dc.identifier.issue | 7B | - |
| dc.identifier.spage | 4663 | - |
| dc.identifier.epage | 4665 | - |
| dc.relation.doi | 10.1143/JJAP.39.4663 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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