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dc.contributor.authorTakaoka, GHen
dc.contributor.authorNoguchi, Hen
dc.contributor.authorNakayama, Ken
dc.contributor.authorSeki, Ten
dc.contributor.authorKawashita, Men
dc.date.accessioned2008-03-18T01:05:47Z-
dc.date.available2008-03-18T01:05:47Z-
dc.date.issued2006-03-
dc.identifier.issn0034-6748-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/50110-
dc.language.isoeng-
dc.publisherAMER INST PHYSICSen
dc.rightsCopyright 2006 American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.en
dc.titleSurface cleaning and modification of Si(100) substrates by ethanol and water cluster ion beamsen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleREVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTSen
dc.identifier.volume77-
dc.identifier.issue3-
dc.relation.doi10.1063/1.2172342-
dc.textversionpublisher-
dc.identifier.artnum03B508-
dc.relation.urlhttp://link.aip.org/link/?rsi/77/03B508-
dcterms.accessRightsopen access-
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