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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Liao, MY | en |
| dc.contributor.author | Gotoh, Y | en |
| dc.contributor.author | Tsuji, H | en |
| dc.contributor.author | Ishikawa, J | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:32:26Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:32:26Z | - |
| dc.date.issued | 2005 | - |
| dc.identifier.issn | 0734-2101 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/5303 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | A V S AMER INST PHYSICS | en |
| dc.title | Deposition of vanadium carbide thin films using compound target sputtering and their field emission | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A | en |
| dc.identifier.volume | 23 | - |
| dc.identifier.issue | 5 | - |
| dc.identifier.spage | 1379 | - |
| dc.identifier.epage | 1383 | - |
| dc.relation.doi | 10.1116/1.2008273 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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