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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Miya, K | en |
| dc.contributor.author | Sasaki, M | en |
| dc.contributor.author | Yamamoto, S | en |
| dc.contributor.author | Gotoh, Y | en |
| dc.contributor.author | Kawamura, Y | en |
| dc.contributor.author | Ishikawa, J | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:24:53Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:24:53Z | - |
| dc.date.issued | 2004 | - |
| dc.identifier.issn | 0167-9317 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/5711 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | ELSEVIER SCIENCE BV | en |
| dc.subject | work function distribution | en |
| dc.subject | Kelvin probe force microscope | en |
| dc.subject | contact potential difference | en |
| dc.subject | ion beam assisted deposition | en |
| dc.subject | radio frequency magnetron sputtering | en |
| dc.subject | TaN | en |
| dc.title | A study of TaN film field electron emitter material by a Kelvin probe force microscope | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | MICROELECTRONIC ENGINEERING | en |
| dc.identifier.volume | 71 | - |
| dc.identifier.issue | 3-4 | - |
| dc.identifier.spage | 343 | - |
| dc.identifier.epage | 347 | - |
| dc.relation.doi | 10.1016/j.mee.2004.02.005 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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