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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Motomura, H | en |
| dc.contributor.author | Imai, S | en |
| dc.contributor.author | Tachibana, K | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:11:25Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:11:25Z | - |
| dc.date.issued | 2000 | - |
| dc.identifier.issn | 0040-6090 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/5914 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | ELSEVIER SCIENCE SA | en |
| dc.subject | FT-IR ellipsometry | en |
| dc.subject | polymer deposition | en |
| dc.subject | etching rate | en |
| dc.subject | selectivity | en |
| dc.subject | electron attachment mass spectrometry | en |
| dc.subject | polymerized species | en |
| dc.title | Difference between C4F8 and C5F8 plasmas in surface reaction processes for selective etching of SiO2 over Si3N4 | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | THIN SOLID FILMS | en |
| dc.identifier.volume | 374 | - |
| dc.identifier.issue | 2 | - |
| dc.identifier.spage | 243 | - |
| dc.identifier.epage | 248 | - |
| dc.relation.doi | 10.1016/S0040-6090(00)01157-3 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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