このアイテムのアクセス数: 0

このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
タイトル: Surface reaction processes in C4F8 and C5F8 plasmas for selective etching of SiO2 over photo-resist
著者: Motomura, H
Imai, S
Tachibana, K
キーワード: FT-IR absorption spectroscopy
FT-IR ellipsometry
polymer deposition
chemical bonds
etching rate
selectivity
発行日: 2001
出版者: ELSEVIER SCIENCE SA
誌名: THIN SOLID FILMS
巻: 390
号: 1-2
開始ページ: 134
終了ページ: 138
URI: http://hdl.handle.net/2433/5915
DOI(出版社版): 10.1016/S0040-6090(01)00948-8
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

アイテムの詳細レコードを表示する

Export to RefWorks


出力フォーマット 


このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。