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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Murase, K | en |
| dc.contributor.author | Nitta, K | en |
| dc.contributor.author | Hirato, T | en |
| dc.contributor.author | Awakura, Y | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:14:21Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:14:21Z | - |
| dc.date.issued | 2001 | - |
| dc.identifier.issn | 0021-891X | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/6003 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | KLUWER ACADEMIC PUBL | en |
| dc.subject | electrodeposition | en |
| dc.subject | ionic liquids | en |
| dc.subject | nonaqueous solution | en |
| dc.subject | redox | en |
| dc.title | Electrochemical behaviour of copper in trimethyl-n-hexylammonium bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide, an ammonium imide-type room temperature molten salt | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JOURNAL OF APPLIED ELECTROCHEMISTRY | en |
| dc.identifier.volume | 31 | - |
| dc.identifier.issue | 10 | - |
| dc.identifier.spage | 1089 | - |
| dc.identifier.epage | 1094 | - |
| dc.relation.doi | 10.1023/A:1012255601793 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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