このアイテムのアクセス数: 0
このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Nakajima, K | en |
| dc.contributor.author | Toyofuku, H | en |
| dc.contributor.author | Kimura, K | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T04:11:05Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T04:11:05Z | - |
| dc.date.issued | 2001 | - |
| dc.identifier.issn | 0021-4922 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/6126 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | INST PURE APPLIED PHYSICS | en |
| dc.subject | ultralow energy | en |
| dc.subject | ion implantation | en |
| dc.subject | amorphization | en |
| dc.subject | defect | en |
| dc.subject | high-resolution | en |
| dc.subject | RBS | en |
| dc.title | Anomalous surface amorphization of Si(001) induced by 3-5 keV Ar+ ion bombardment | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | en |
| dc.identifier.volume | 40 | - |
| dc.identifier.issue | 4A | - |
| dc.identifier.spage | 2119 | - |
| dc.identifier.epage | 2122 | - |
| dc.relation.doi | 10.1143/JJAP.40.2119 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。