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| タイトル: | Formation mechanism of strontium and titanium oxide films by metalorganic chemical vapor deposition: An isotopic labeling study using O-18(2) |
| 著者: | Nakamura, T    https://orcid.org/0000-0001-9008-5586 (unconfirmed)Momose, S Tachibana, K |
| キーワード: | isotope labeling TOF-SIMS O-18(2) SrO TiO2 SrTiO2 (Ba, Sr)TiO3 MOCVD Sr(DPM)(2) Ti(t-BuO)(2)(DPM)(2) |
| 発行日: | 2001 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 40 |
| 号: | 11 |
| 開始ページ: | 6619 |
| 終了ページ: | 6622 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/6162 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.40.6619 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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