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| タイトル: | Thermal diffusion behavior of implanted germanium atoms in silicon dioxide film measured by high-resolution RBS |
| 著者: | Arai, Nobutoshi Tsuji, Hiroshi  Gotoh, Naoyuki Minotani, Takashi Ishibashi, Toyotsugu Okumine, Tetsuya Adachi, Kouichirou Kotaki, Hiroshi Gotoh, Yasuhito  Ishikawa, Junzo |
| キーワード: | nanoparticles delta-layered nanoparticles ion implantation |
| 発行日: | 2007 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE SA |
| 誌名: | SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY |
| 巻: | 201 |
| 号: | 19-20 |
| 開始ページ: | 8312 |
| 終了ページ: | 8316 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/67198 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.surfcoat.2006.01.089 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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